多肽合成

基于将单个N-“保护氨基酸反复添加到生长氨基成分中，逐步生成，通常从生成链中的C端氨基酸开始，然后通过DCC、混合碳酐或N-carboxy酐实现单个氨基酸的连接。Carbodimide方法包括以DCC为连接剂连接N-C-保护氨基酸。重要的是，这种连接试剂促进了N保护氨基酸自身碳基和C保护氨基酸随机氨基之间的缩水，产生肽链，同时产生N，N?/FONT>-dyaylcohercylurea副产品。然而，这种方法由于其引起消旋副作用，或在强碱存在时产生5(4H)-oxaylones和N-acylurea受到影响。幸运的是，如果不能完全清除，这些副作用可以最小化。该方法是添加像HoSu或HoBT这样的连接催化剂，此外，该方法还可用于生成N保护氨基酸的活性酯衍生物。依次产生的活性酯会自发与其他任何C保护氨基酸或肽发生反应，产生新的肽。

当从副产品中，diaydohexylurea难以分离活性酯时，可以采用混合carbonic酐的方法。这种方法由两个步骤组成。第一步是用适度的酰基氯激活Nx碳基，用tertiary碱的有机溶剂保护氨基酸。第二步是让肽或氨基酸的随机氨基与carbonic酐发生反应。carbonic酐通常是随机氨基的14倍。

虽然这种方法在低温下高效高产，商品纯净，但也有其缺点。例如，由于碱基的强激活酐衍生物有消旋倾向。然而，这个问题在使用Nx-“Urethane保护基(CB2，或TBOC)时不会发生。此外:由于反应性高，混合Carbonic酐倾向于5(4H)-oxagolomes，Urerbanesdiacyimide，酯的形成，容易失衡。

促进这些副作用的条件是高温，增加激活时间(即混合酐形成后，加入alkylchlorbonate和amine成分的时间，amine构成空间占据，平相处和混合酐不完整。幸运的是，这些副作用除了产生哑唑酮和脲烷外，还可以在低温下反应(~-15℃)，大大降低了活性时间(~1-2分钟)。为了至少产生哑唑酮和尿烷，应采取以下措施:1)重要性必须使用无水有机溶剂、乙酸和四氢喃，t-butand，或acetonitrile；2)应选择tertiary碱和N-methglmorpholine；3)必须使用CB2或TBocn-“保护氨基酸”。

虽然isobutyl和ethylchlorocarbonate常用于产生酐，但还有其他连接试剂，如EEQD和IIQD，用于与Carboxap成分发生反应，产生erhyl或isobutylcarbonate衍生物。与传统的酐程序不同，EEEQD和IIQD不需要碱或低温，通常需要0.1-0.4M浓度的摩尔量酐和氨。未来EEEQD或IIQD多加5-10%，温合液室温搅拌15-24小时。真空去除溶剂后，残留物溶于乙酸，用1NHaHCO3、10%枸杞橡酸和盐水洗剂，然后用无水Na2So4干燥挥发，产品可重晶结或层析净化。

这种方法避免了碱的使用，但仍有消旋和尿烷副产品，水平和经典非常高。因此，优点是方便，但应注意，两种方法的具体比较仍然不是主要的。

写到最后:

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